Высокотемпературная система для обработки пластин размером до 152,4 мм с нагревом до 1600 °C

Name: Высокотемпературная система для обработки пластин размером до 152,4 мм с нагревом до 1600 °C
SKU: 512-111

Графитовый держатель подложки нагревается индукционной системой с точным контролем температуры. Распределительная головка из нитрида бора обеспечивает равномерную подачу прекурсоров на подложку; диаметр отверстия составляет 0,5 мм. Герметичная кварцевая камера предназначена для работы с прекурсорами. Газовые линии оснащены компрессионными трубными фитингами 6,35 мм; предусмотрены вход и выход газа, вход прекурсора, порт для вакуумметра Пирани и клапан сброса давления, настроенный на 0,207 бар. Термопара типа C подключается через ввод 6,35 мм и имеет длину 400 мм. Также предусмотрены смотровое окно диаметром 35 мм и вакуумный порт. Испаритель-барботер для прекурсора объёмом 100 мл изготовлен из нержавеющей стали 316. Нагревательная рубашка и лента газовой линии рассчитаны на температуру до 150 °C; лента предотвращает конденсацию паров. Источник питания рассчитан на трёхфазное переменное питание 208–240 В, частоту 50–60 Гц и мощность 15 кВт; рабочая частота составляет 30–100 кГц. Предусмотрены блокировки по потоку воды, перегреву и превышению мощности. Система поддерживает 30 сегментов программируемого нагрева и охлаждения, защиту от перегрева и отказа термопары; точность температуры составляет ±1 °C. Вакуумметр с ёмкостным усилением измеряет давление до 3,8E-5 торр. Опционально доступны безмасляный сухой спиральный насос производительностью 200 л/мин, охладитель воды с цифровым контролем температуры и расходом 58 л/мин, газовая система управления с 2–9 каналами и детектор водорода. Для охлаждающей воды требуются давление свыше 2,07 бар, расход свыше 6 л/мин и температура ниже 30 °C.

Наименование производителя

1600°C Max. MIST/LPCVD System up to 6" Wafer - MIST-1600-6

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает система обработки пластин

Система применяется для эпитаксиального роста тонких плёнок на различных подложках, особенно для полупроводников следующего поколения.

Осаждение тонких пленок

Характеристики ШФЮ-45(5Р)

Модель (по базе 91Т)ШФЮ-45(5Р)

Материалсистема с максимальной температурой 1600 °C

Приводустановка для нанесения покрытий распылением

Размер700 × 1300 × 1600 мм (Д × Ш × В)

Типвакуумная сушильная печь

Система обработки пластин - гибкость поставки.
Каждый проект имеет свои особенности, и мы это учитываем. Именно поэтому по запросу мы уточним у производителя, возможна ли корректировка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ШФЮ-45(5Р) под условия применения (руками первого изготовителя или собственного производства в России).

Дата последней сверки данных: 08.10.26

Производитель и характеристики проверены.