Система термического испарения с четырьмя испарительными источниками

Кварцевая камера имеет наружный диаметр 280 мм, внутренний диаметр 260 мм и длину 310 мм. Вращающийся держатель образца диаметром 50,8 мм оснащён заслонкой; скорость вращения составляет 5 об/мин, а расстояние до источника регулируется от 40 до 85 мм. Испарительные тигли из оксида алюминия рассчитаны на 3 мл каждый. Нагрев выполняется вольфрамовыми спиралями, термопара расположена в нижней части тигля. Цифровой контроллер поддерживает 30 программируемых сегментов и точность ±1 °C. Термопары типа S работают в диапазоне 200–1500 °C; опциональная термопара типа B предназначена для диапазона 1200–1700 °C. Скорость нагрева и охлаждения ниже 0,3 °C/с при температуре до 1200 °C и ниже 0,15 °C/с в диапазоне 1200–1700 °C. При непрерывной работе выше 1300 °C продолжительность ограничена одним часом. Вакуумный порт предназначен для подключения насоса; вакуум ниже 1,0E-5 Торр достигается при использовании опционального турбомолекулярного насоса. Встроенный газовый ввод с трубным соединением 6,35 мм и игольчатым клапаном служит для продувки камеры или подачи формирующего газа. Входное питание рассчитано на однофазный переменный ток 208–240 В с частотой 50/60 Гц; мощность составляет 1200 Вт, выходное напряжение — 12 В, максимальный ток — 30 А. Система может быть модифицирована под пластины диаметром 101,6 мм при работе через один тигель.

Наименование производителя

2" Wafer Thermal Evaporation System with 4 Sources & Temperature Controller for Lab Thin Film Coating - GSL-1700X-EV4