Высоковакуумная круглая нагревательная плита

Name: Высоковакуумная круглая нагревательная плита
SKU: 516-000

Нагревательная плита предназначена для системы магнетронного распыления. Круглая нагревательная поверхность имеет диаметр 101,6 мм. Максимальная рабочая температура составляет 800 °C. Габаритные размеры изделия — 362 × 350 × 192 мм (длина × ширина × высота). ^*

*) Описание оборудования представлено в авторской редакции иностранного производителя. Наши инженеры уже включили техническую и эстетическую редактуру описания в рабочий план. Мы в ближайшее время уточним терминологию и характеристики, перепроверим технические детали и доработаем текст так, чтобы описание ЛФА-85(1Э) закрывало большинство вопросов, а назначение, возможности и задачи оборудования стали понятны каждому. Не хотите ждать? Задайте вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

2025 Hot Sale 800C High Vacuum Heating Plate 4 Inch Circular Hot Plate Heater for Magnetron Sputtering System DIY - HVHP-100

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает круглая нагревательная плита

Круглая нагревательная плита предназначена для применения в системе магнетронного распыления.

Нагрев материалов

Характеристики ЛФА-85(1Э)

Модель (по базе 91Т)ЛФА-85(1Э)

Максимальная рабочая температура800 °C

Размер362 × 350 × 192 мм (длина × ширина × высота)

Круглая нагревательная плита - гибкость поставки.
Мы понимаем, что каждый проект уникален. Поэтому по запросу мы готовы рассмотреть настройку технических параметров, типоразмеров и комплектации ЛФА-85(1Э) под конкретные задачи (силами завода-изготовителя или нашего предприятия в России).

Дата последней проверки актуальности информации: 26.09.26

Производитель и технические характеристики подтверждены.