Крупноформатный лазерный гравировальный станок для плоского стекла

Оборудование оснащено лазером с полупроводниковой накачкой, длиной волны 532 нм и мощностью 3 Вт. Максимальный размер рабочей зоны составляет 2000 × 3000 × 150 мм. Максимальная скорость гравировки достигает 220000 точек/мин, ресурс полупроводникового модуля — 20000–25000 ч. Разрешение составляет 800–1200 точек/дюйм, размер точки — 40–80 мкм, шаг гравировки — 0,07–0,12 мм. Повторяемость позиционирования составляет менее 0,04 мм на 300 мм, фокусное расстояние — 120 мм. В конструкции предусмотрены высокоскоростной сканирующий гальванометр и портальная конструкция. Управление реализовано в режиме пятиосевого управления с использованием осей X, Y и Z. Охлаждение воздушное. Мощность станка составляет 2 кВт, напряжение — 220 В, частота — 50 Гц. Обработка выполняется без контакта с поверхностью стекла, без сточных вод и выхлопных газов.

Наименование производителя

3D Large Format Flat Glass Laser Engraving Machine New AI High-Tech Multifunctional Deep Marking Delicate Exquisite DXF/BMP/DWG