Компактная настольная установка термического испарения

Настольная установка термического испарения оснащена программируемым регулятором температуры и работает в диапазоне 200–1700 °C. Нагрев выполняется вольфрамовой спиралью; для металлических материалов предусмотрен тигель из оксида алюминия, а температуру контролирует термопара типа B. ПИД-регулирование поддерживает 30 температурных сегментов, скорость нагрева менее 0,3 °C/с при температуре ниже 1200 °C и менее 0,15 °C при температуре 1200–1700 °C; стабильность регулирования составляет ±1 °C. При ручном управлении рабочий ток ниже 40 А, рекомендуемый ток ниже 20 А. Кварцевая вакуумная камера имеет наружный диаметр 165 мм, внутренний диаметр 150 мм и длину 250 мм. Поворотная площадка образца диаметром 50 мм оснащена механическим затвором, а расстояние от нее до источника испарения регулируется в пределах 40–85 мм. Газовый вход с соединением для трубки 6,35 мм и встроенным игольчатым клапаном предназначен для продувки и вентиляции камеры, а также регулирования расхода газа. Для контроля разрежения установлен антикоррозионный емкостной мембранный манометр с диапазоном от 3×10⁻⁵ до 1013 торр. Вакуумный порт предназначен для подключения насоса; при использовании опционального турбомолекулярного насоса после ночной откачки достигается предельный вакуум менее 4×10⁻⁶ торр. Насос, необходимый для нанесения покрытий, не входит в комплект; предусмотрены варианты с двухступенчатым пластинчато-роторным насосом с вакуумом 10⁻² торр или турбонасосом с вакуумом 10⁻⁵ торр. Опциональный кварцевый микровес измеряет скорость осаждения и толщину пленки с разрешением 0,10 ангстрема, а компьютерная программа отображает сведения о материале покрытия, суммарную толщину покрытия и скорость нанесения.

Наименование производителя

Compact Benchtop Thermal Evaporation Coater with Precision Temperature Control for Lab Thin Film Deposition GSL-1700X-SPC2