Установка для выращивания кристаллов методом вакуумной левитационной плавки

Установка включает высокочастотный индукционный источник питания, вакуумную камеру, специальный медный тигель с водяным охлаждением для плавки и прецизионный механизм вытягивания. Максимальная масса расплава в тигле составляет 60 г, его внутренний диаметр — 35 мм, глубина — 60 мм; расход воды для тигля — 58 л/мин. Источник питания имеет максимальную входную мощность 40 кВт, частоту 80–200 кГц, ток 10–100 А и входное напряжение 200 В ±10% при трехфазном режиме и частоте сети 50/60 Гц. Давление воды для охлаждения источника питания составляет 0,2 МПа, расход — 10 л/мин. Вакуумная камера выполнена из стали SS 304 с водяной рубашкой охлаждения, ее размеры — диаметр 400 мм и глубина 40 мм. Камера оснащена кварцевым окном диаметром 300 мм и двумя портами для подачи и отвода газа. Турбомолекулярный насос создает вакуум до 10^-6 торр и имеет скорость откачки 700 л/с. Механизм вытягивания оснащен вращающимся штоком; скорость вытягивания регулируется в диапазоне 0,1–24 мм/ч, скорость вращения штока — 0,03–50 об/мин, ход — 250 мм. Ускоренное перемещение выполняется вручную. Дополнительно может поставляться охлаждаемый водой вытягивающий шток. Для рециркуляционного охлаждения при температуре 30 °C требуется расход воды более 110 л/мин.

Наименование производителя

Crystal Grower by Vacuum Levitation Melting - SKJ-LCZ