Двухголовочная установка магнетронного распыления

Двухголовочная установка магнетронного распыления работает в камере высокого вакуума и оснащена двумя пушками для мишеней, двумя источниками питания, системой контроля толщины плёнки, молекулярным насосом и водоохладителем. Пушки имеют водяное охлаждение. Водоохладитель оснащён системой самоциркуляции и заполняется чистой или деионизированной водой. В камеру подают аргон чистотой не менее 99,99 %, допускается применение других инертных газов. Для подключения баллона предусмотрено двойное обжимное соединение диаметром 6 мм; подачу газа контролирует массовый расходомер по двум путям. Напряжение питания составляет 220 В при частоте 50 Гц, мощность оборудования — 900 Вт. Внутренний диаметр камеры — 300 мм, предельная степень вакуума — 9,0×10⁻⁴ Па. Для мишеней предусмотрены диаметр 50,8 мм и толщина 0,1–5 мм. Столик образцов диаметром 140 мм вращается с регулируемой скоростью 1–20 об/мин; для него может быть установлена функция смещения напряжения. Размер основной машины составляет 500×560×660 мм, общие габариты — 1300×660×1200 мм, размер вакуумной камеры — 300×300 мм, масса — 160 кг. Эксплуатация возможна на высоте не более 1000 м, при температуре 25 °C ±15 °C и относительной влажности 55 % ±10 %. Для работы требуются заземление, вентиляция и рабочий стол 1500×600×700 мм с несущей способностью более 200 кг.

Наименование производителя

Dual-Target Plasma Sputtering System for High Vacuum Thin Film Coating, 2025 Hot Sale DC/RF Dual-Head High Vacuum 2-Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater for Metal & Conductive Coating, DC/RF Dual-Head 2-Inch High Vacuum Magnetron Plasma Sputtering Coater for Thin-Film & Metal Coating VTC-600-2HD-LD