Артикул: 509-649 Модель: ТЭР-98(4Р) Секция: Дополнительная

Настольная вакуумная магнетронная плазменная установка для нанесения покрытий с сушильной печью

Гибкая распылительная головка с водяным охлаждением имеет диаметр 50,8 мм. Допустимая толщина мишени составляет до 6,35 мм для немагнитной и до 1,5875 мм для магнитной мишени. Вращающаяся площадка из нержавеющей стали диаметром 50 мм работает со скоростью 0–5 об/мин, а расстояние между головкой и площадкой регулируется в диапазоне 60–100 мм. Максимальный диаметр зоны нанесения составляет 101,6 мм. Для охлаждения предусмотрен рециркуляционный водяной охладитель с воздушным охлаждением и расходом 10 л/мин. Ручная заслонка защищает мишень, а держатель служит для размещения распылительной головки во время простоя. Сенсорная панель управления с интеграцией программируемого логического контроллера имеет диагональ 152,4 мм и используется для контроля вакуума и тока. Входное питание составляет 220 В переменного тока при частоте 50/60 Гц. Питание 110 В возможно через отдельный трансформатор мощностью 1000 Вт с предохранителем 15 А. Выходные параметры включают постоянное напряжение 1600 В, мощность 250 Вт и ток до 150 мА; при превышении этого значения действует защита от сверхтока. Встроенный вакуумный порт и игольчатый клапан обеспечивают подключение вакуумной системы и подачу аргона. Для работы требуется баллон с аргоном и регулятором давления. Пластинчато-роторный вакуумный насос обеспечивает давление менее 1,0×10^-2 Торр, а турбомолекулярный насос — менее 1,0×10^-5 Торр. При ночной откачке и прогреве минимальное давление может составлять менее 4,0×10^-6 Торр. Насосы не входят в комплект. В комплект входит медная мишень диаметром 50,8 мм и толщиной 2,5 мм. Система работает с мишенями из золота, серебра, алюминия, хрома, никеля, платины, титана, олова, лития и магния. Для непроводящих материалов и полупроводников опционально доступен высокочастотный генератор. Дополнительно доступны монитор толщины пленки, нагреваемая до 500 °С площадка образца и расходомер для точного контроля подачи газа. Масса при транспортировке составляет 72,5747792 кг, габариты — 1143 × 1143 × 1016 мм.
Наименование производителяLab Desktop Single Target Vacuum Magnetron Plasma Sputtering PVD Coating Machine Gold Chrome Copper VTC-16 with Drying Oven
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает настольная вакуумная установка для магнетронного распыления

Настольная вакуумная установка для магнетронного распыления применяется при нанесении покрытий на пластины и образцы в вакууме.

Характеристики ТЭР-98(4Р)

Модель (по базе 91Т)ТЭР-98(4Р)
Материалкварцевая стеклянная трубка
Приводустановка для нанесения покрытий методом распыления
Размернаружный диаметр 165 мм × внутренний диаметр 150 мм × высота 250 мм
Типвакуумная сушильная печь
Настольная вакуумная установка для магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ТЭР-98(4Р) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).

Дата актуализации информации: 26.09.26

Производитель и параметры оборудования проверены.

Люди, которые искали Настольная вакуумная установка для магнетронного распыления, также смотрели:

Волоконная лазерная маркировочная машина+5 фото

Волоконная лазерная маркировочная машина

Модель: КДЭ-72(2И)
Волоконная лазерная маркировочная машина оснащается встроенной системой воздушного охлаждения. Рабочее поле составляет 100 × 100 мм; доступны варианты от 50 × 50 до 300 × 300 мм. Минимальный размер символа — менее 0,5 мм. Скорость обработки составляет не более 7000 мм/с. Длина волны лазерного излуче
Лабораторная центрифужная установка для нанесения тонких плёнок с УФ-крышкой, до 10 000 об/мин, для пластин 127 мм+3 фото

Лабораторная центрифужная установка для нанесения тонких плёнок с УФ-крышкой, до 10 000 об/мин, для пластин 127 мм

Модель: ДГА-41(1Ш)
Лабораторная установка выполняет центрифужное нанесение тонких плёнок. Образец фиксируется вакуумной адсорбцией. В верхней крышке предусмотрено центральное инжекционное отверстие с резиновой пробкой; его используют при необходимости герметичной рабочей камеры. Газовый вход камеры предназначен для по
Компактное устройство для литья ленты с вакуумным столом и нагревом до 250 °C+2 фото

Компактное устройство для литья ленты с вакуумным столом и нагревом до 250 °C

Модель: ТМЭ-17(8Р)
Вакуумный зажимной стол изготовлен из алюминиевого сплава и имеет микроразмерные отверстия. Его рабочая площадь составляет 400 × 250 мм, площадь нанесения покрытия — 300 × 200 мм. Нагревательные элементы установлены внутри стола; точность цифрового регулятора температуры составляет ±1 °C. Для создан
Дизельная смесительная машина производительностью 18–20 м³/ч+5 фото

Дизельная смесительная машина производительностью 18–20 м³/ч

Модель: ГЯШ-54(9В)
Смесительная машина оснащена герметичным барабаном увеличенного объёма, который позволяет обрабатывать крупную партию сырья за один цикл и сокращает интервалы между операциями. Спиральные лопасти обеспечивают равномерное перемешивание, препятствуют расслоению смеси и поддерживают однородность обрабо