Лабораторная вакуумная печь с вращающимся держателем для полупроводниковых пластин

Лабораторная вакуумная печь имеет вакуумную камеру из нержавеющей стали с внутренним диаметром 500 мм и высотой 460 мм. Максимальная рабочая температура составляет 950 °C. Верхний и нижний инфракрасные нагреватели управляются раздельно; расстояние между ними регулируется в диапазоне 2–25 мм. Вращающийся держатель для полупроводниковой пластины рассчитан на диаметр 304,8 мм, а его скорость регулируется от 1 до 10 об/мин. Два кварцевых окна диаметром 60 мм обеспечивают наблюдение за процессом. Герметичная сдвижная заслонка перекрывает источник испарения при высоком вакууме. Турбонасос обеспечивает вакуум до 10⁻⁵ торр, механический насос — до 10⁻² торр. Нагреватели изготовлены из нержавеющей стали, оснащены водоохлаждаемыми рубашками и графитовыми пластинами для выравнивания нагрева. В комплект входит циркуляционный охладитель с расходом 58 л/мин. Система управления включает два цифровых регулятора температуры с программированием на 24 сегмента и точностью ±0,1 °C, сенсорный компьютер и программируемый логический контроллер. Сенсорный компьютер управляет температурными профилями, вакуумным давлением и подъёмом фланца; предусмотрено 10 предварительно заданных программ. Допустимая разность температур между нагревателями составляет не более 300 °C.

Наименование производителя

Laboratory 950°C Max CSS and RTP Furnace With Rotating Holder for 12" Wafer - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300