Лазерные гравировальные станки
Товары
+2 фотоНастольный лазерный гравировально-режущий станок
Модель: ЖКИ-27(8Я)
Настольный станок выполнен в компактном формате и имеет рабочую область 600 × 400 мм. Электрический подъемный стол с диапазоном подъема 0–400 мм позволяет изменять положение рабочей зоны для заготовок разной толщины. Предусмотрены варианты лазерной мощности 60, 80, 100, 120 и 150 Вт; лазерная систем
+1 фотоВолоконный лазерный гравировальный станок
Модель: ЭФЕ-95(4Т)
Волоконный лазерный гравировальный станок выполнен в полностью закрытом корпусе раздельного типа. В конструкции предусмотрена гальванометрическая лазерная головка, рассчитанная на высокую точность и скорость нанесения. Воздушное охлаждение поддерживает стабильную работу оборудования. Доступны вариан
+2 фотоЛазерный станок для резки материалов мощностью 300 Вт
Модель: ФРА-17(4Ю)
Лазерный станок выполняет точную резку стали и акрила. Система водяного охлаждения поддерживает стабильность оборудования при длительной работе. Рабочая область размером 1300 × 2500 мм рассчитана на проекты различного формата. Станок оснащён числовым программным управлением для выполнения рабочих оп
+3 фотоЛазерный станок для гравировки
Модель: ЮРУ-51(5Е)
Оборудование оснащено ЧПУ и поддерживает несколько форматов файлов для подготовки задания к работе. Воздушная система охлаждения обеспечивает стабильную работу станка во время гравировки. Лазер имеет регулируемую мощность 3 Вт или 5 Вт, что позволяет выполнять точную обработку. Глубина гравировки со
+2 фотоЛазерный гравировальный станок для обработки материалов
Модель: КГА-24(9Ю)
Лазерный гравировальный станок предназначен для выполнения детальной гравировки различных материалов. Обрабатываемыми материалами являются древесина, акрил и кожа; также подходят МДФ, бумага, пластик, плексиглас и резина. Мощность лазера составляет 40 Вт. Герметичная лазерная трубка обеспечивает ста
+2 фотоЛазерный станок для резки и гравировки мощностью 40/50/60 Вт с водяным охлаждением
Модель: ДЛЕ-51(2И)
Лазерный станок оснащён системой ЧПУ и водяным охлаждением. Глубина гравировки составляет 0,1–1 мм, скорость гравировки — 0–400 мм/с.
+3 фотоЛазерный станок с ЧПУ, 50 Вт
Модель: ИШК-98(8Б)
Лазерный станок оснащён водяным охлаждением. Глубина гравировки составляет 0,1–1 мм, а скорость гравировки — 1–60000 мм/мин.
+2 фотоНастольная 3D-лазерная гравировальная машина
Модель: ЯГН-87(7В)
Машина предназначена для работы с брелоками с фотографиями, а также с объектами кубической и круглой формы.
+1 фотоЛазерный гравировально-маркировочный станок
Модель: ШЛА-12(9Ю)
Станок оснащён ЧПУ, диодным лазером и воздушным охлаждением. Скорость гравировки составляет 5000 точек в секунду.
+5 фотоКрупноформатный 3D-станок для подповерхностной лазерной гравировки
Модель: ВЭФ-24(7Э)
Оборудование выполняет внутреннее травление с помощью импульсной лазерной системы. Оно создает сложные узоры в стекле и хрустале, а также предназначено для обработки хрустальных украшений и художественных изделий из архитектурного стекла. Импульсная система сокращает время гравировки на 50 %. Различ
+5 фотоГравировальная машина для 3D-фотографий
Модель: ЕМВ-79(8В)
Машина оснащена ЧПУ и системой воздушного охлаждения. Глубина гравировки составляет 0,1–1 мм, скорость гравировки — 5000 точек в секунду.
+2 фотоВолоконно-лазерная маркировочная машина с воздушным охлаждением
Модель: БУШ-47(8С)
Волоконно-лазерная маркировочная машина сочетает автоматическую подачу с оборудованием для онлайн-нанесения маркировки. Лазерная головка с автоматическим датчиком запускает нанесение при прохождении заготовки. Рабочее поле составляет 110 × 110 мм, центральная длина волны — 1064 ± 4 нм, а поляризация
+4 фотоСтанок для внутренней лазерной гравировки
Модель: ЭГХ-45(2И)
Станок выполняет бесконтактную внутреннюю лазерную обработку, при которой поверхность заготовки не подвергается непосредственному контакту с инструментом. Лазерная система имеет воздушное охлаждение и диодную накачку; средний ресурс лазерного диода превышает 20 000 ч. Максимальная частота составляет
+2 фотоСтанок с ЧПУ для внутренней двухмерной и трёхмерной лазерной гравировки кристалла и стекла
Модель: МЕН-99(1Р)
Станок с ЧПУ выполняет внутреннюю двухмерную и трёхмерную лазерную гравировку и маркировку изделий из кристалла и стекла. Оборудование оснащено ИАГ-лазером с воздушным охлаждением. Скорость гравировки составляет 5000 точек в секунду.
+2 фотоАвтономный лазерный 3D-станок с ЧПУ для подповерхностной гравировки стеклянных блоков и хрустальных шаров
Модель: ПЛЮ-54(7Н)
Лазерный 3D-станок с ЧПУ предназначен для подповерхностного формирования объёмных фотографических изображений внутри стеклянных блоков и гравировки хрустальных шаров. В качестве обрабатываемых материалов применяются хрусталь, стекло и акрил. Станок имеет воздушное охлаждение. Глубина гравировки прев
+1 фотоНастольный лазерный гравировальный станок 600 × 400 мм
Модель: ПЮБ-72(5С)
Настольный лазерный гравировальный станок выполняет гравировку и резку в рамках одной операции, благодаря чему сокращается количество рабочих этапов. Высокоточный лазер воспроизводит сложные узоры и тонкие надписи, а также формирует на поверхности материала управляемые трещины или рисунки. Такой при
Лазерный гравировальный станок для внутренней гравировки
Модель: НТЭ-84(7И)
Лазерный гравировальный станок оснащён автоматической системой позиционирования лазера, отслеживающей световой путь, и высокоточной системой управления движением. Импульсная технология поддерживает постоянство мощности лазера. Предусмотрены лазерная коллимация, замкнутая система управления и воздушн
+3 фотоНастольный полупроводниковый лазерный гравировальный станок 10 Вт с рабочей зоной 400×415 мм
Модель: ВУГ-85(1Н)
Настольный лазерный гравировальный станок оснащён полупроводниковым лазерным модулем мощностью 10 Вт и имеет рабочую зону размером 400×415 мм. Многолинзовая оптическая схема сжимает лазерное пятно до 0,06 мм, обеспечивая проработку мелких деталей. Увеличенная длина Рэлея луча и высокая проникающая с
+1 фотоСтанок с ЧПУ для подповерхностной лазерной гравировки 2D- и 3D-изображений в кристалле и стекле
Модель: БМУ-75(1У)
Станок предназначен для подповерхностной лазерной гравировки 2D- и 3D-изображений в кристалле и стекле. Предусмотрено управление с ЧПУ и воздушное охлаждение. Глубина гравировки составляет 5–20 мм или более 20 мм, скорость — 5000 точек в секунду. Тип лазера — ИАГ.
+1 фотоПромышленный лазерный станок для резки и гравировки
Модель: УЛШ-92(8Б)
Промышленный лазерный станок предназначен для бесконтактной обработки акрила, хрусталя, стекла, кожи, МДФ, бумаги, пластика, фанеры, резины и древесины; также обрабатываются оргстекло, ткань, бамбук и керамика. Точность повторного позиционирования составляет ±0,0125 мм. Система охлаждения включает в
Настольный станок с УФ-лазером для 2D- и 3D-гравировки стекла, акрила, хрусталя и металла
Модель: ЖКЕ-95(5Р)
Настольный станок с УФ-лазером выполняет двухмерную и трёхмерную гравировку стекла, акрила, хрусталя и металла. Оборудование поддерживает внутреннее формирование изображений в прозрачных заготовках и нанесение маркировки на их поверхность. Бесконтактная обработка не оказывает механического воздейств
+3 фотоКомпактный настольный лазерный станок
Модель: ИБР-74(5Л)
Компактный настольный лазерный станок имеет рабочую зону 600 × 400 мм. Для обработки предусмотрены акрил, оргстекло, ПВХ, стекло, кожа, резина, пластик, древесина, бумага и камень. Мощность лазера доступна в вариантах 40, 50 и 60 Вт. Скорость гравировки составляет 0–600 мм/с, скорость резки — 0–200
Портативная волоконная лазерная машина для маркировки и гравировки, 20/30 Вт, 1064 нм
Модель: ДЮР-14(2Ж)
Машина имеет ручную конфигурацию и полностью закрытое исполнение. Для охлаждения используется воздух. Она работает в непрерывном режиме; скорость гравировки не превышает 12000 мм/с, глубина гравировки составляет менее 0,1 мм. Скорость маркировки составляет 0–7000 мм/с и 3000–7000 мм/с, а глубина мар
+5 фотоПортативный ручной волоконный лазерный маркиратор мощностью не менее 100 Вт
Модель: ЖСЮ-48(2Ш)
Лазерный маркиратор оснащён импульсным волоконным лазерным источником с регулируемой частотой, высокой пиковой мощностью, настраиваемой длительностью импульса и быстрым откликом. Длина волны составляет 1060–1080 нм, максимальная энергия одного импульса — 1,2 мДж, частотный диапазон — 1–3000 кГц, диа