Плазменная установка очистки, камера 5 л, мощность 100 Вт, частота 13,56 МГц

Установка оснащена кварцевой камерой диаметром 152,4 мм и длиной 165,1 мм. Она обрабатывает подложки или пластины размером до 101,6 мм с применением плазмы воздуха, кислорода либо аргона. Максимальная скорость удаления органических загрязнений при высокой радиочастотной мощности составляет около 20 нм/мин. Рабочее давление регулируется в диапазоне 30–100 Па, а расход газа — в диапазоне 10–100 мл/мин. Рабочий ток не превышает 0,2 А без учета вакуумного насоса. Питание рассчитано на переменный ток 220/110 В и частоту сети 50/60 Гц. Частотное смещение менее 0,2 кГц, характеристический импеданс составляет 50 Ом; согласование выполняется автоматически. Управление на базе микроконтроллера поддерживает автоматический и ручной режимы, время очистки регулируется от 1 до 6000 с, а уровень мощности — от 10 до 100 %. Температура вакуумной камеры ниже 65 °C, охлаждение принудительное. Внешние размеры составляют 400 × 390 × 200 мм, масса — 80 кг.

Наименование производителя

MGSI Lab 13.56MHZ 100W High Quality OEM 5L Plasma Cleaner for Cleaning and Removal of Nanoscale Organic Contaminants