Программируемая вакуумная установка для центробежного нанесения покрытий

Установка рассчитана на обработку дисковых подложек диаметром 5–100 мм и квадратных подложек размером до 100×100 мм. Скорость вращения регулируется в диапазоне 250–9000 об/мин; стабильность скорости составляет менее ±1%, а равномерность нанесения — менее 1%. Процесс нанесения включает шесть этапов, для каждого этапа можно отдельно изменять настройки. Длительность одного этапа регулируется от 0 до 1800 с. Память программы хранит до пяти рецептов, каждый рецепт можно редактировать с использованием пяти этапов вращения. Управление выполняется через сенсорный ЖК-экран диагональю 142,24 мм с отображением обратного отсчёта. Номинальное напряжение установки составляет около 220 В при частоте 50 Гц, мощность двигателя — 40 Вт. В комплект входят вакуумный насос и держатели. Габариты установки с держателями составляют 210×280×248 мм, а размер металлической части без держателей — 210×280×155 мм. Совместимыми материалами являются кремниевая пластина, стекло, кварц, металл и другие материалы. Компактное исполнение позволяет разместить установку в вытяжном шкафу или перчаточном боксе.

Наименование производителя

Programmable Vacuum Spin Coater 9000RPM for 4" Wafer Semiconductor Photoresist Coating KW-4, High Speed 9000 RPM KW-4 Programmable Spin Coater with Vacuum Pump & Chucks for 4 Inch Wafer Lab Research Thin Film Coating