Артикул: 516-941 Модель: ЕТМ-41(4М) Секция: Дополнительная

Компактная установка магнетронного распыления

Установка магнетронного распыления оснащена двумя головками с водоохлаждаемыми кожухами и шторками. Одна головка подключена к источнику постоянного тока мощностью 500 Вт, другая — к радиочастотному источнику мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц. Электропитание рассчитано на 208–240 В переменного тока при однофазном режиме и частоте сети 50/60 Гц. Размер мишени составляет 50,8 мм в диаметре при толщине 0,1–5 мм; мишени доступны опционально. Вакуумная камера из нержавеющей стали имеет размер 300 мм в диаметре и 300 мм по высоте, стеклянное смотровое окно 100 мм и откидной верхний фланец для доступа к образцу. Вращающийся нагреваемый столик для образцов диаметром 140 мм работает при температуре до 500 °C, его скорость вращения составляет 1–20 об/мин; предусмотрен одноточечный программируемый регулятор температуры. Газовый контур включает два массовых расходомера с диапазоном 0–200 стандартных см³/мин при калибровке по азоту и вентиляционный порт 6,35 мм. Габариты при закрытой крышке составляют 1219,2 × 711,2 × 812,8 мм, при открытой — 1219,2 × 711,2 × 939,8 мм; масса нетто — 160 кг. Для плазменного распыления используется аргон чистоты 5N.
Наименование производителяVTC-600-2HD-LD DC/RF Dual-Head 2" Magnetron Sputtering Coater with Rotating Heating Stage & MFC Gas Control
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает установка магнетронного распыления

Установка магнетронного распыления может выполнять совместное распыление или осаждение многослойных плёнок из сплавов, ферроэлектриков, полупроводников, керамики, диэлектриков, оптических материалов и PTFE на подложки.

Характеристики ЕТМ-41(4М)

Модель (по базе 91Т)ЕТМ-41(4М)
Материалустановка магнетронного распыления с двумя головками
Размерпри закрытой крышке: 1219,2 × 711,2 × 812,8 мм
Установка магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы знаем, что задачи каждого проекта отличаются. Поэтому по вашему запросу мы готовы рассмотреть возможность адаптации технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЕТМ-41(4М) под конкретные условия применения (силами первого производителя или силами нашего завода в России).

Дата последней сверки данных: 26.09.26

Производитель и характеристики проверены.

Люди, которые искали Установка магнетронного распыления, также смотрели:

Портативный ранцевый аппарат с импульсным волоконным лазером для очистки металла мощностью 100 Вт

Портативный ранцевый аппарат с импульсным волоконным лазером для очистки металла мощностью 100 Вт

Модель: ШМЭ-77(9К)
Портативный ранцевый аппарат оснащён импульсным волоконным лазером и предназначен для удаления ржавчины с металлических поверхностей на высоте. Скорость очистки составляет 5–15 м²/ч, ширина очистки — 185 × 185 мм. Мощность лазера: 100, 200 или 300 Вт. Для обработки подходят нержавеющая и углеродиста
Ультразвуковая распылительная форсунка+1 фото

Ультразвуковая распылительная форсунка

Модель: ЖМА-99(1И)
Ультразвуковая энергия разрушает жидкость с образованием капель размером несколько микрометров. Распыление возможно при низкой вибрационной энергии под действием силы тяжести и сжатого воздуха низкого давления. Ультразвуковой генератор получает питание 208–240 В переменного тока с частотой 50/60 Гц;
Станок для лазерной резки металлических листов и труб

Станок для лазерной резки металлических листов и труб

Модель: МЯВ-88(4М)
Станок оснащён системой ЧПУ и волоконным лазером. Область резки составляет 1500 × 3000 мм; для труб предусмотрен диапазон 20–215 мм при длине до 6000 мм. Толщина реза находится в диапазоне 0–30 мм.
Гидравлическая домкратная система для сдвигового перемещения трансформаторов+5 фото

Гидравлическая домкратная система для сдвигового перемещения трансформаторов

Модель: ХЭБ-87(9Х)
Гидравлическая домкратная система предназначена для сдвигового перемещения трансформаторов. Она выполнена в виде гидравлического домкрата и использует гидравлический источник питания. В системе применены гидравлические цилиндры. Изделие изготовлено из легированной стали, а его максимальная высота со