Высокотемпературная печь для выращивания монокристаллов

Высокотемпературное исполнение имеет объёмную рабочую камеру с загрузкой образцов сверху; при необходимости устанавливается подъёмный механизм для их размещения и извлечения. Камера выполнена размером Ø240 × 300 мм. Двухслойный корпус оснащён воздушным охлаждением, снижающим нагрев внешней поверхности. Внутри используются волокна высокочистой окиси алюминия с поверхностным покрытием из окиси алюминия. Нагревательная часть отделена от системы управления, благодаря чему её корпус имеет меньшую высоту. Нагрев осуществляется восемью стержневыми элементами. Непрерывная рабочая температура составляет 1600 °C, максимальная рабочая температура — 1700 °C при продолжительности не более 1 часа. Система ПИД-регулирования поддерживает программу из 50 температурных сегментов для задания скорости нагрева, скорости охлаждения и времени выдержки; предусмотрены защита от перегрева и сигнализация. Точность регулирования составляет ±1 °C, для каждой температурной зоны используется термопара типа B. Скорость нагрева регулируется в диапазоне 0–10 °C/мин, рекомендуемая скорость — не более 5 °C/мин. Питание этого исполнения однофазное, частотой 50/60 Гц, максимальная мощность — 13 кВт. Размеры корпуса печи составляют 830 × 820 × 655 мм, шкафа управления — 620 × 370 × 990 мм. Исполнение с пламенным методом рассчитано на температуру до 2000 °C и имеет входное питание 220 В переменного тока, однофазное, 50/60 Гц, мощностью 1 кВт. Двухканальная система расходомеров регулирует потоки водорода и кислорода в диапазоне 1–2000 стандартных см³/мин для каждого газа. Бункер из нержавеющей стали позволяет изменять частоту вибрации и управлять подачей порошкового сырья; дополнительно может устанавливаться автоматический питатель для непрерывной подачи. Стол для затравочного кристалла автоматически опускается и вращается с регулируемой частотой 0–40 об/мин, имеет подъёмный ход 0–300 мм и скорость перемещения не менее 1,0 мм/ч. Предусмотрены ветрозащищённый запальник и возможность установки водородно-кислородной горелки для плавления сырья с низкой температурой плавления.

Наименование производителя

VTF-1600X 1700℃ Crystal Growth Furnace for Melting Materials and Crystal Growing OEM Customizable, SKJ-VE2000 Single Crystal Growth Furnace 2000℃ Flame Method with 2-Channel Mass Flow Meter Control System OEM Customizable